BASF Exactus®EX-ET-222光管型红外测温仪RTP快速热处理设备,测温范围70-1300℃,精度高达1.5℃, 重复性0.1℃,漂移:每年0.1摄氏度
特点和优点
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- 精度,分辨率高达 0.01 ºC,准确度为 1.5 ºC
- 重复性 0.1 ºC,漂移小于每年 0.1 ºC
- 速度高达每秒 1,000 个读数
数字和/或模拟输出,可轻松集成到控制系统中
巴斯夫的技术在控制晶圆间温度和薄膜厚度均匀性方面具有诸多优势。较高灵敏度的电子设备和先进的光学器件意味着可以使用更短波长的探测器来测量辐射能量。这减少了晶圆透射和发射率带来的误差。此外,该仪器的高速和高分辨率提供了更好的控制和噪声抑制。结果是更好地监控晶圆温度并改善工艺结果
测量范围
65 – 1150 °C
(0.7 至 1.6 mm 测量波长)
100 – 1900 °C
(1.55 mm 测量波长) 120 – 3000 °C
(0.7 至 1.6 mm 测量波长)
280 – 2200 °C
(0.9 mm 测量波长) 350 – 3000 °C
(0.9 mm 测量波长) 500 – 3000 °C
(0.65mm 测量波长)
专用光学元件允许在 0.90mm 时测量至 200°C 并在 0.7-1.6mm 时测量至 25°C
典型应用
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